廢水處理篇：光化學(xué)氧化技術(shù)應用于印染廢水處理
近年來(lái)印染行業(yè)技術(shù)革新日新月異，普遍采用堿減量工藝，人工合成聚乙烯醇(PVA)漿料和各種難降解、抗氧化的助劑大量使用，印染廢水有機物濃度大幅上升，可生化性進(jìn)一步變差，使得原先可以達到處理要求的傳統二級處理工藝處理效果削弱，難以達標排放。

 

 

 

印染廢水的光化學(xué)氧化處理

 

光化學(xué)氧化技術(shù)屬于高級氧化工藝，是新興的現代廢水處理技術(shù)，該技術(shù)通過(guò)氧化劑(O3、H2O2等)在紫外(或可見(jiàn))光的激發(fā)和催化劑(Fe2+、Fe3+、半導體等)的催化作用下，產(chǎn)生具有強氧化性的羥基自由基(.H)，.OH的標準氧化電位達2.8eV，是除元素氟以外最強的氧化劑，能無(wú)選擇地將絕大多數有機物徹底氧化成CO2、H2O和其它無(wú)機物，反應速度快，耗時(shí)短，反應條件溫和(常溫、常壓)，操作條件易于控制，無(wú)二次污染。印染廢水中染料的顏色來(lái)源于染料分子的共扼體系-含不飽和基團-N=N-、>C=C<、-N=O、>C=O等的發(fā)色體，光化學(xué)氧化產(chǎn)生的?OH能夠有效打破共扼體系結構，使之變成無(wú)色的有機分子，并進(jìn)一步礦化為H2O、CO2和其他無(wú)機物質(zhì)。光化學(xué)氧化工藝上的特點(diǎn)和染料的分子結構特征決定了光化學(xué)氧化技術(shù)在印染廢水處理方面具有其他工藝所無(wú)可比擬的優(yōu)勢。印染廢水處理

1.光助Fenton法

2..光催化氧化法

 

光催化氧化技術(shù)的原理是利用能量等于或大于半導體材料(TiO2、ZnO、CdS等)禁帶寬度(一般3eV以下)的光照射半導體材料，使其價(jià)帶上的電子(e-)被激發(fā)躍遷到導帶，在價(jià)帶上產(chǎn)生相應的空穴(h+)。光致空穴(h+)具有極強的得電子能力，將其表面吸附的OH-和H2O氧化成OH，被激發(fā)的電子(e-)與O2結合生成超氧離子(O2-):TiO2+hν→TiO2+h++e-h++OH-→OHh++H2O→OH+H+e-+O2→O2-OH和O2-將有機物最終氧化為CO2、H2O和無(wú)機離子。另外，染料本身也是光敏化劑，有助于催化劑價(jià)帶上電子的躍遷，使得催化劑可以被較大波長(cháng)范圍的光激發(fā)。TiO2催化活性好，難溶，無(wú)毒，穩定性強，太陽(yáng)光照射下即可反應，且價(jià)格相對便宜，因而是最常用的催化劑。印染廢水處理

3UV/O3法

 

UV/O3是將臭氧(O3)與紫外光(UV)輻射相結合的高級氧化工藝。O3是一種強氧化劑，既可直接與有機物反應，也可通過(guò)反應過(guò)程中產(chǎn)生的.OH氧化有機物，具有很好的降解有機物、開(kāi)環(huán)脫色和消毒效果，且多余的O3在水中自動(dòng)分解成O2，無(wú)二次污染。廢水處理